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國美館「國際版畫雙年展」 38國作品精采呈現

2024-07-29 發佈 常維鈞(常罡) 臺中
評審委員呂燕卿於展覽現場導賞。

評審委員呂燕卿於展覽現場導賞。

國立臺灣美術館主辦「中華民國國際版畫雙年展」,徵件期間有來自82個國家1215位藝術家報名參賽,經初審及複審,遴選出共計38國163件展出作品,於國美館精采呈現。

 

國美館長陳貺怡表示,本屆雙年展有幾項指標性數據,例如今年比上一屆多了3個國家,也比上一屆多了約200件作品參賽。參賽作品最多的國家為波蘭,共有131件作品參加;而泰國與日本參賽作品也大幅提高,成長了2倍,顯見各國藝術家對本展的支持與重視。

 

國美館表示,本屆參賽作品,不論是質量、技法、形式、風格,皆展現多元並蓄的精采風貌。榮獲金牌獎的是來自日本的安河内裕也,作品〈在2022那年之後-囚犯之九〉,對於人類為了發展文明與追求繁榮,同時因爭奪領土和資源而陷入持續的衝突與戰爭,反思人類的歷史與本質。銀牌獎帕蒂朋.蘇潘朋是泰國籍,作品〈記憶中的事物與痕跡之十一〉對自然力量的敬畏和對生命逝去的哀思,也暗示重建與再生的可能。銅牌獎則是由來自日本的武藤正悟獲得,他的作品〈結界〉象徵著現今處於寒冬中的烏克蘭人民,正在期待春天的到來,而藉由暖色調畫面的呈現,寓意春天終將降臨的願景。

 

「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」即日起至10月13日於國美館201-202展覽室展出。更多活動詳情,歡迎至國美館網站查詢。

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